高(gao)輻(fu)照(zhao)(zhao)太(tai)陽光(guang)(guang)模擬(ni)器發(fa)(fa)展(zhan)(zhan)概(gai)況，國外高(gao)輻(fu)照(zhao)(zhao)太(tai)陽光(guang)(guang)模擬(ni)器技術(shu)發(fa)(fa)展(zhan)(zhan)較(jiao)為(wei)成熟，且(qie)焦(jiao)平面功(gong)率、輻(fu)照(zhao)(zhao)度(du)值及最(zui)高(gao)溫度(du)均較(jiao)高(gao)，而國內現有太(tai)陽光(guang)(guang)模擬(ni)器主要(yao)為(wei)平行光(guang)(guang)全(quan)光(guang)(guang)譜太(tai)陽光(guang)(guang)模擬(ni)器

高輻照(zhao)度太(tai)陽光模擬器滿足大(da)面(mian)積太(tai)陽光匯聚所具有的太(tai)陽光輻照(zhao)特性,并能根據實際研(yan)究需求調(diao)節(jie)焦(jiao)平面(mian)大(da)小及焦(jiao)平面(mian)輻照(zhao)強度。